复杂的光刻机是怎么制造出来的（将全套光刻机图纸给我国也造不出来）

“本文原创，禁止抄袭，违者必究”

被称为“世界上最复杂”的设备之一，全球还没有一家企业能独立打造出这种设备，其复杂、精细超乎想象。就是它——光刻机。

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，制造和维光刻机护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

其中，荷兰ASML公司是其中的龙头大哥。

作为占据了全球50%的市场规模的芯片消耗大国，我国早在20年前其实就有了自己的规划与部署。

在2001年，微电子研究院分析出了微电子对我国未来半导体产业的重要性，并提出了“芯片是电子产业心脏”的概念，在第二年便针对集成电路行业与上海市共同成立了上海微电子。

尽管如此，我国的EUV光刻机却还是难以自由出货。

而在上海微电子成立之初，为填补光刻机市场上的知识空白前往海外领头企业拜访，其中一位工程师甚至说出了“即便将全套光刻机图纸给我国，也造不出光刻机”这句话。

毫无疑问，这句话深深的伤害到了我国科研人员的心，也伤害到了广大群众，一时之间，网络上沸沸扬扬，甚至有几名网友怒其不争的质问“为什么我们需要向他们订购光刻机，难道我们自己制造不出来吗？”

在这样的情况下，我国的科研人员反而更加坚定了制造出光刻机的决心，在上海微电子，中科院等附属机构相互扶持相互帮助，携手解决了光刻机领域接踵而至的难题！

经过不断的研究，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”成功通过验收！

该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片！

面对中国的突飞猛进，其他国家明显“慌了”！

根据ASML公布的2022年第1季度财报中，ASML的销售额同/环比下降19%、29.1%，净利润同/环比下降47.8%、60.8%。

中国是全球最大的芯片生产国和消费国，每年进口芯片的金额远远超过石油等战略资源。但随着国内芯片制造水平的提高，我们正逐步收缩进口芯片的物量。

根据2022年前4个月的统计，我国进口芯片数量为1860亿片，同比减少了11.4%，对外部依存度降低不少。

对于ASML公司而言，游戏规则正在由中国改写——他们对其他国技术封锁的产品，如今正在被我们量产！

在外部环境的变化及形势所迫下，ASML公司一改往常的傲慢姿态，转头向中国示好。

就在前段时间，ASML总裁Peter甚至坦言“除了受到《瓦森纳协定》限制的EUV光刻机无法向中国供应外，其他光刻设备均可以和中国企业进行交易。”

这句话也让不少国家与企业暗自惊骇：不可一世的ASML居然向中国低头了！在外界议论纷纷之时，一位来自荷兰的科学家道出了真相，“ASML为什么态度大变？因为它不得不变！”

他说，“EUV光刻机是世界目前最复杂的工具，但它依然是由人类设计和制造的，其物理定律在全球都是相同的。既然荷兰企业能够做出来，那么其他国家当然也是可以的。

最重要的是，中国现在已经有了足够雄厚的经济实力，中国经济是荷兰的17倍，这样的基础完全有实力发展光刻机。而且，中国本身就是一个科技强国，研发支出排名全球第二，近年来专利申请最多，尤其是科技方面的人才也最多。光刻机荷兰可以制造出来，中国当然更可以！”

除去这位荷兰工程师，是我国通信业知名观察家、智能互联网研究专家项立刚，也说，“只有真正干实业的，才了解具体情况。”

项立刚认为，网上传的光刻机多么复杂、单靠我们根本搞不出来，都是外企放出的消息，就是为了误导我们。并且我们决心去突破国产光刻机，也就是近几年才开始。

只要我们下定了决心，他3年做出样机、5年规模量产，先DUV后EUV，根本不是问题！

中国正在经历百年不遇之变局，作为有着五千年悠久历史的大国，毫无疑问，中国也能像之前一样牢牢把握住这次历史机遇，成为世界上的大国、强国、富国！我们的未来，不仅仅是光刻机！对此！大家是怎么认为的呢？