欧洲知名cvd化学气相沉积设备原理（CVD化学气相沉积技术）

CVD(化学气相沉积)，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料、大多数金属材料和金属合金材料。那特气柜是如何参与到CVD技术的生产过程中去的呢？

CVD(化学气相沉积)是一种化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。

因为CVD使用的原材料气体大多是特种气体，具有一定的危险性，所以对这些气体使用就需要用到特气系统。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的，而硅烷（SiH4）是一种在室温下能着火、在空气或卤素气体中能爆炸性燃烧的剧毒性特种气体，所以，为保证硅烷安全使用需用到特气柜。

沃飞WOFLY全自动特气柜（GC）的柜体采用防腐蚀涂层，且板材厚底不得低于2.5mm，同时配有防爆观察窗，可以随时观察柜内变化；特气柜的报警侦测警报功能齐全，并在柜门关闭情况下，特气柜内部都处于负压状态，可第一时间发现泄漏并阻止泄漏气体扩散；其中包括自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断（当设定报警信号被触发时）在内的基本功能，也是生产安全和员工人身安全的有力保障。

沃飞WOFLY全自动特气柜（GC）通过PLC面板，配合触摸屏进行系统显示和设定，从而实现设备安全有效的运行。其内部PLC程式设计的安全联锁功能、高纯阀件的合理选择和布局，既满足了CVD(化学气相沉积)在生产过程中对气体原材料的高纯度和连续稳定供给的要求，也确保了正常生产和员工人身安全。

CVD(化学气相沉积)是传统的制备薄膜的技术，应用广泛，以上内容就是关于CVD技术和特气柜在CVD中所占的一席之地的简单介绍，感谢您的阅读，更多气体资讯，请关注我们!