光刻胶企业需要光刻机吗（光刻与光刻机知识通俗系列介绍）

光刻中所使用的胶，完整称呼是光刻胶，学名是光致抗蚀剂顾名思义，它可以保护晶圆在后续加工过程中，例如腐蚀、离子注入、镀制膜层时，不受侵扰；而保护的范围，能够通过光的作用，进行调整和改变，我来为大家讲解一下关于光刻胶企业需要光刻机吗?跟着小编一起来看一看吧!

光刻胶企业需要光刻机吗

光刻中所使用的胶，完整称呼是光刻胶，学名是光致抗蚀剂。顾名思义，它可以保护晶圆在后续加工过程中，例如腐蚀、离子注入、镀制膜层时，不受侵扰；而保护的范围，能够通过光的作用，进行调整和改变。

改变调整晶圆受光刻胶保护范围的过程，也就是光刻胶的过程，既不是机械式的刻，也不是像激光切割机式的刻，前面说过了，是先曝光、后显影。

光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶两大类。

正性光刻胶是原来不溶于有机溶剂的有机高分子化合物，曝光的时候，受到光照射的胶分子发生光降解反应，即从不溶于有机溶剂的大分子量有机化合物，降解为能够溶解于有机溶剂的小分子量有机化合物，并在显影的过程中被有机溶剂溶解掉，也就是被“刻”掉。没有在曝光时受到光照射的胶分子仍然覆盖在晶圆的表面上，在后续的腐蚀工艺中对晶圆表面发挥着保护作用。

负性光刻胶本来是能够溶于有机溶剂的小分子量有机高分子化合物，曝光的时候，受到光照射区域的胶分子发生交联反应，变为不再溶于有机溶剂的大分子量有机高分子化合物，到显影的时候，这部分被曝光的胶就留了下来。在后续的腐蚀工艺过程中，这部分留下了的胶起着保护晶圆的作用。

虽然看起来，正性光刻胶和负性光刻胶都可以有选择性地保护晶圆，光刻过程中似乎选择其中任意一种都能够到达光刻的目的。但是，在实际操作中，负性光刻胶的有机溶剂是存在安全隐患与环保隐患的二甲苯；而且，即使是没有被二甲苯溶解的那部分光刻胶也会或多或少地吸收一部分二甲苯，使得体积膨胀起来，影响光刻机上被刻图形的精细程度，所以现在制作大规模集成电路和超大规模集成电路时，倾向于选用正性光刻胶，而不再使用负性光刻胶。

本系列科普文章的下一篇是(5)《光掩膜的概念》。