台积电的7nm制程芯片 台积电1nm制程厂或将落地脚桃园龙潭

　　芯片越来越精微，很多人认为摩尔定律未来不久就会时效。不过，芯片厂商仍然在不断探索物理世界的极限，从3nm工艺到2nm工艺，从2nm工艺到1.4nm工艺，再从1.4nm工艺到1nm工艺，后者被视为摩尔定律的物理极限。

台积电（图源网）

　　10月31日消息，据台湾《工商时报》报道，继竹科2nm厂之后，台积电将启动先导计划，预计最新2nm以下（1nm）制程拟落脚新竹科学园区辖下的桃园龙潭园区。

　　对此，竹科管理局长王永壮回应称，关于个别厂商布局情况，在厂商宣布之前不便透露，但单纯以龙潭园区来说，第一期事业专用区用地已差不多满了，第二期主要规划为公园、绿地开放空间，未来若有新厂想要进驻、设厂，确实要展开第三期基地评估规划工作。按照这个情况，台积电已经为1nm做规划了，正式量产1nm工艺可能要到2027年去了。

　　而要量产1nm工艺，更先进的下一代EUV光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML的下一代EUV光刻机试验型号最快明年出货，2025年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种EUV光刻机的售价将达到4亿美元以上。