asml第二代euv光刻机（EUV光刻机ASML正式宣布）

尽管关于ASML的消息很多，这家全球光刻机巨头在年初公布了2021年财报，很亮眼，这让我们看到作为EUV光刻机独家供应商的巨大利润。

不过很快，关于ASML指责中国企业东方晶源侵权一事就迅速成为热点，目前的进展，还是停留在东方晶源的回复上，其表示报道与事实不符，东方晶源有自主的知识产权。

然而近日，关于ASML的一些新消息出来了，确切的说，是关于EUV光刻机的重要事项。

据悉，ASML在近日正式宣布了EUV光刻机的发展路线图，其EUV光刻机的下一个重大技术变革，将会是高数值孔径系统。

所谓的高数值孔径系统，简单来说就是光刻机的光学镜头部分，而增大镜头的数值孔径，可以确保光刻机制造更先进的芯片。

或许这样的信息对大家来说没有什么其他感觉，但其实很不寻常，其实该消息的出现，就意味着ASML又回到了30年前的状态。

这是怎么回事呢？让我们慢慢为您道来。

ASML成立时并非是从零开始，其最初是一家合资公司，母公司则是飞利浦和ASM，ASM在当时就是一家半导体设备制造商，而飞利浦当时也有自己的光刻机研发部门。

不过在当时的市场上，飞利浦的光刻机很不入流，或者说，飞利浦根本没有市场存在感，其市场地位倒数第一。

因此光刻机的业务，实际上已经被飞利浦边缘化，因此ASML的成立，被当时的人们认为，是飞利浦为了甩掉光刻机业务。

为什么这么说呢？在ASML成立之前，飞利浦已经在研发PAS2000型光刻机，但是遇到了问题，没有合适的镜头。

尽管飞利浦也有自己的光学部门，但是该部门甚至连为显微镜生产镜头的能力都没有。

不过，飞利浦在法国找到一家小型公司，他们愿意为飞利浦生产所需的镜头，但是法国公司错误地估计了该镜头的难度，飞利浦没能如愿。

一个巧合的机会，飞利浦方面发现了蔡司，而蔡司成为了飞利浦唯一的救命稻草。

飞利浦方面有两个迫切的需求：

第一，它们希望得到定制镜头

第二、它们希望得到大数值孔径的镜头，例如0.34

但蔡司的回答很简单：我们可以提供0.28数值孔径的镜头，并拒绝提供定制服务。

ASML没有任何办法。

对于ASML来说，其真正的第一款产品是PAS2500，其不仅拥有适应市场需求的电子晶圆台，而且在ASML的设计中，该款光刻机将会采用i线镜头。

问题又来了，i线镜头需要蔡司提供，蔡司再次拒绝。

无奈的ASML，最终还是选择了由蔡司提供的一种标准非定制的g线镜头来制造PAS2500。

可坏消息还是出现了，镜头的镜头柱存在一个严重的问题：漂移。

导致的结果是，机器运行一段时间后，成像质量就开始呈现下降，造成芯片制造商不得不长时间进行停机。

所以从这里就可以看出，ASML在一开始就对蔡司产生严重的依赖性。

有朋友会说，难道ASML就不会多选择几个镜头供应商吗？ASML当然这么做了，但是结果是，蔡司是市场上可以找到的最好选择，但蔡司在当时却做不出最好的镜头。

最好的镜头在尼康和佳能手中，但尼康和佳能的镜头都是自己研发的，ASML根本买不到。

然而ASML对蔡司的依赖，还没有更严重的时候，在型号为PAS 5500的光刻机研发上，ASML差点因此关门大吉。

事情发生在30年前的1992年，当时的ASML还是一家光刻机的小公司，其市场上的份额很小，大部分被尼康和佳能所占据。

因此PAS 5500成了ASML与尼康和佳能竞争的堵住，如果PAS 5500顺利完成，那么ASML就有了与尼康和佳能竞争的底气。

但是在1992年5月，ASML的首席执行官马里斯到访了奥博科亨（蔡司所在地），高光时刻来临，马里斯无奈的说到：蔡司成了ASML发展的瓶颈，人们对PAS 5500很感兴趣，但ASML不得不等待来自奥博科亨的光学元件。

没有蔡司的镜头，ASML的PAS 5500就不可能上市，带来的结果就是，ASML的经营陷入困境。

如果不是当时母公司飞利浦给予的2100万美元的及时输血，ASML的结果就是倒闭。

事实上，ASML已经消耗了大量资金，其另一个母公司ASM已经被其拖垮，而飞利浦也已经到达尽头的边缘，此外，ASML还得到过荷兰政府、银行和欧盟的陆续资助。

最终陆续的资本输血得以延续着ASML的生命，最终蔡司终于交付了镜头，ASML算是转危为安。

上文中我们提到，ASML希望得到最大达到0.34数值孔径的镜头，但蔡司只能提供0.28，其实虽然现在ASML已经在生产EUV光刻机，但其初期的EUV光刻机镜头的数值孔径，也才只有0.33。

而现在ASML公布的EUV光刻机发展路线图，再次将堵住压在了大数值孔径的镜头上，也就是说，ASML后续的发展，依然在极度的依赖蔡司。

所以有外媒就表示，这等于是承认了，ASML发展的近40年来，从一开始就极度依赖蔡司的弊病，一直没有得到解决，蔡司依然是ASML发展的瓶颈。

换句话说，如果蔡司不能如期交付ASML所需要的镜头，那么ASML就无法制造出更先进的EUV光刻机。

这与30年前的事件是如此的相似。

30年前，ASML从蔡司那里得到了更大数值孔径的镜头，因此其PAS 5500具备了制造更先进芯片的能力，使得ASML可以对接全球最大的芯片制造商，可以与尼康和佳能同台竞技。

而30年后，ASML为了维持自己在EUV光刻机领域的领导地位，再次需要大数值孔径的镜头。

这两次ASML的关键时刻，都是蔡司起到决定性作用。

但我们要说的是，ASML的最大弊病、最大瓶颈，还不是依赖蔡司，而是以蔡司为最具有代表性的依赖外部资源。

当然，我们也承认ASML拥有自己的技术，例如双工件晶圆台，但该技术远没有光学元件更加重要。

就拿现在的EUV技术来说，ASML之所以可以在EUV光刻机上实现领先突破，主要的功劳还真的不是ASML。

当制造工艺进入到7纳米以下时，光刻机的光源首先遇到瓶颈，但可选择的余地很多，例如电子束、X射线等，EUV也是一种。

问题的关键就在于，到底用谁才是正确的选择，一旦选错，那么巨额的投入就算是打了水漂，而公司也很可能会因此一败涂地，谁都输不起。

就在这个关键的时候，英特尔发起了EUV联盟，英特尔认为，EUV是正确的方向，发起的联盟集合了当时的很多半导体巨头公司，以及数百个当时顶级的半导体专家。

当时尼康其实已经加入了，因为尼康是当时的光刻机巨头，ASML也想参加，最终ASML加入了，而尼康被踢出局，至于ASML是怎么加入的，想必大家也应该可以想到，看看现在ASML的局面就已经很清楚了。

或许这也就是解释了，为什么ASML方面一直强调，EUV光刻机拥有十万的零配件，中国不太可能造出EUV光刻机，就是因为，ASML一直依赖外部资源，形成习惯后并将此作为成功经验，如果不这样干，就一定失败。

这太滑稽了！

而且大家应该也注意到了，ASML为了制造更先进的光刻机，基本上就是采用两种方法：采用波长更短的光源和更大数值孔径的镜头。

这两种方案难度极大，成本也极高。而我国中科院已经研发出新的技术，拥有自主知识产权，避开这两种传统路线。

例如ASML要实现10纳米工艺，需要用到193纳米的DUV光波，而中科院的技术采用365纳米的i线就可以，该光刻机4年前就已经投入使用了，只不过没有进入商用市场而已。

而现在我们看到ASML的下一代EUV光刻机，竟然要依赖高数值孔径的镜头，不得不说，在这样的情况下，虽然ASML还暂时领先，但被我们追上的时间，已经是大大的可以期待了。

更关键的在于，依赖高数值孔径的镜头，会极大的拖累ASML，因为这样的镜头并不是短时间可以研发出来的，就像ASML总裁所说的：物理定律在中国和ASML这里是一样的。

没错，但是中科院另辟蹊径，我们现在有三个可以突破的方向，ASML只有两条，而且ASML还是选择的最难的那一条：高数值孔径镜头。

想必大家还记得，当时的中科院院长白春礼是在2020年说出，要解决光刻机卡脖子的问题，ASML在不是零起步的情况下，发展了近40年也才实现EUV光刻机的领先，所以中科院必然也是有着充足的准备的，例如上面我们提到的新技术，所以我们完全可以少安毋躁，拭目以待。

总之，虽然ASML现在似乎是神话一般的存在，但神话的不是它，而是EUV光刻机，是EUV光刻机给予了ASML这样的成就。

但水能载舟亦能覆舟，来自外部的技术和供应确保了ASML的市场地位，但由于不可替代的依赖性，也让ASML的短板非常明显，换句话说，ASML在升级产品上非常被动，甚至有运气的成分。

因此我们有理由相信，ASML并不是光刻机市场的“终结者”，最终的竞争焦点还是要依靠自己。

其实就在ASML找到蔡司时，对于ASML在光刻机核心部件上依赖外部供应，也表示了不解和吃惊。

而且我们也看到，ASML似乎在习惯了外部供应后，已经懒于开发其他的保持光刻机先进性的新技术了，因为ASML现在升级光刻机的方法与其成立之初竟然一个样。

所以说，好戏才刚刚开始，后续更精彩，我们拭目以待。

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