摩尔定律是一种预言吗(是生存还是毁灭)

摩尔定律是一种预言吗(是生存还是毁灭)(1)

摩尔定律

  • 内容

当价格不变时,集成电路上可容纳的器件数目每两年(摩尔的说法)或18个月(David House的说法)就会增加一倍,性能也随之增加一倍。

  • 历史

英特尔公司的创始人之一戈登·摩尔,时任仙童半导体公司(Fairchild Semiconductor)工程师,于1965年4月19日在《电子学》杂志(Electronics Magazine)发表了一篇论文,文中预言半导体芯片上的晶体管和电阻数量每年都将增加一倍。

而后来,由于芯片上增加更多的晶体管,会带来成本的增加,所以摩尔在根据当时的实际情况,将“每年增加一倍”改为“每两年增加一倍”。而随后,英特尔的高管David House,又将这个时间改为了18个月。

  • 意义

过去几十年来,半导体行业发展的实践证明,摩尔定律是准确而稳定的。

  • 集成电路

  • 集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件,通过一定的工艺,把电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构。

    杰克·基尔比(Jack Kilby)和罗伯特·诺伊斯(Robert Noyce)在1958~1959年期间,分别发明了锗集成电路和硅集成电路,而后来硅集成电路后来得到了大规模应用。

    原来的方式是将晶体管、电阻和电容等元器件都安装在一块电路板上,体积庞大且笨重,而集成电路改变这一状况,带来小型化和实用化。

    • CMOS

    CMOS,是Complementary Metal Oxide Semiconductor(互补金属氧化物半导体)的缩写,它是指制造大规模集成电路芯片时采用的一种技术,或者用这种技术制造出来的芯片,常指保存计算机基本启动信息(如日期、时间、启动设置等)的芯片。在CMOS技术领域,不断产生一些新进展,从而提升了集成电路的性能和密度。

    • DRAM

    DRAM,即动态随机存取存储器,最为常见的系统内存。DRAM 只能将数据保持很短的时间。为了保持数据,DRAM使用电容存储,所以必须隔一段时间刷新一次,如果存储单元没有被刷新,存储的信息就会丢失。这项技术使得制造单晶体管存储单元变得可能。

    另外,由于东芝1980年发明了闪存技术,从而带来更加低成本、高容量的存储器,并广泛应用于各种电子产品。

    • 化学放大光刻胶

    光刻胶,是一种对于光和射线十分敏感的材料。此类材料主要用于微电子工业的微观平板印刷术,如电子存储器件和数据处理单元的制造,微型集成电路的印刷等。

    所谓的化学放大,是指一个光解产酸剂PAG分解后产生的酸分子,引发一些列化学反应,这些反应能根据光刻胶曝光前后溶解能力的差异,分为正负性光刻胶。

    IBM在于1980年代中期,将化学放大光刻胶技术用于DRAM的生产。

    • 深紫外准分子激光光刻技术

    准分子激光,是指受到电子束激发的惰性气体和卤素气体结合的混合气体,形成的分子向其基态跃迁时发射所产生的激光。

    曝光,是芯片制造中最关键的制造工艺,而光学曝光技术是当前曝光的主流技术。为了提高分辨率,光学曝光机的波长不断缩小,从436纳米、365纳米的近紫外(NUV)到246 纳米、193纳米的深紫外(DUV)。

    深紫外准分子激光光刻技术,使得集成电路的工艺水平从到1990年的800纳米缩小到2016年的10纳米。在此之前,受激准分子激光器主要作为研究设备使用,因为它在1970年就得以发明。准分子激光光刻技术的发明是激光应用50年来的一个里程碑。

    • 化学机械平坦化制程(CMP)

    CMP是一种全局平坦化技术,它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面,在硅片和抛光头之间有磨料,并同时施加压力。CMP设备也常称为抛光机。由于CMP能对于硅片,进行精确并均匀抛光,使其达到所需要的厚度和平坦度。

    虽然是基于古老的望远镜镜面抛光技术,CMP技术被认为是实现晶圆表面局部平坦化和全局平坦化的最佳方法。

    危机

    虽然过去一段时间,由于以上列举的这些关键动力,摩尔定律的预言不断变成现实。但是这些年来,这一定律不断受到挑战,具体的挑战者和事例都很多,我就不一一列举了。

    这里我想要指出的是,和牛顿三大定律等物理定律不同,摩尔定律并不是自然定律,而是预测性和观察性的,所以面临危机很正常。

    然而,我主要关心的是产生这些危机的深层次原因,主要归纳为以下三方面:

    • 工艺

    芯片制造的光刻技术面临压力,14纳米芯片所用的193纳米的光波长较长,而说需要的工艺复杂度较高,成本也很高。但是,13.5纳米超短波长的远紫外光虽然带来了希望,但是其在芯片制造方面,还有种种难题需要突破。

    • 发热

    由于芯片狭小的空间里面的晶体管数量越来越多,所产生的热量也会越来越大,发热问题成为了严重的制约因素。

    • 量子效应

    随着芯片制造工艺进步到10纳米,甚至7纳米,进入了微观量子力学领域,电子的行为将受限于量子的不确定性,隧穿效应发生,晶体管将变得不再可靠。

    由于上述因素的影响,所以就连戈登摩尔本人,在2015年接受一次专访时也提出:

    我们不会再有过去几十年那样的进展速度。我认为这是任何技术都无法避免的,它最终将趋于饱和。我猜我将看到摩尔定律在下一个十年走向灭亡,但是这并不令人惊讶。

    出路

    摩尔定律面临种种严峻挑战,很多人都持有悲观态度,各种摩尔定律死亡、失效的话题变得纷纷攘攘。

    但是,也有少部分人持有乐观态度,其中不乏现任英特尔的CEO 布莱恩·科兹安尼克,他在今年的CES上曾经指出:

    在我的职业生涯中,我已经不止一次的听说摩尔定律要灭亡,但是今天我站在这里想你们真正展示,并且告诉你们摩尔定律仍然活着、健康而且旺盛。

    而我的观点是:

    原有的摩尔定律所表述的内容是否仍然有效,这点很值得怀疑,我觉得以前的表述可能需要更新。然而,半导体业界最近一些新的技术动态,让我们对于摩尔定律仍抱有一线希望。更重要的是,这些前沿技术孕育着半导体芯片性能不断提升,半导体产业进一步发展的新方法。

    • 3D封装多层芯片

    这种技术将晶体管从水平结构,转变为垂直结构并建造多层电路。目前,内存产业已经转向了三维架构,这样可以以减轻微型化的压力,同时提高NAND Flash的容量。

    单芯片的三维集成,通过建造多层设备,层层叠加,彼此用密集的电线相连。从二维走向三维后,晶体管数量的增加还具有很大的空间。

    • 新材料的应用

    英特尔已宣布,达到7纳米工艺之后,将不再使用硅材料。锑化铟和铟镓砷化合物等材料,与硅相比具有带来更快的开关速度,而功耗也较低,所以前景看好。

    另外,碳材料包括碳纳米管和石墨烯,也是不错的选择。在许多备选材料中,石墨烯,作为二维材料,一度被看好。它能够通过翻转电子自旋来进行计算,而不是通过传统的移动电子的形式,它做成的电子开关比硅材料开关的速度更快,且发热量更小。

    另外,还有新型超颖材料,这种材料将可以带来无需半导体的微电子设备,这个概念很有意思。去年,美国加州大学圣地亚哥分校的工程师们就制造出了首个无需半导体、光学控制的微电子设备。

    • 量子计算机

    之前,我们说过当半导体工艺水平达到低于10纳米时,就会发生量子现象。所以这个时候,成为了量子物理的世界了。

    目前的晶体管开关,有两种状态:1 和 0。而量子计算机的晶体管却有3种状态:0、1 以及「同时是 0 和 1」。最后的「同时是 0 和 1」的状态体现了量子态叠加原理,也就是薛定谔的猫所描述的状态。

    显然,量子计算机由于多了叠加态(以及量子纠缠),运算能力会远超普通计算机,而这项技术也正走向小型化和通用化,其性能比普通计算机要强很多。

    • DNA分子

    DNA分子,是计算机科学和分子生物学相结合和交叉的前沿研究领域。DNA计算演化而来的DNA计算机,与传统电子计算机相对有着很多优势,例如体积小、存储量大、运算快、能耗低、并行性等。

    和当今电子领域使用的硅电路不同,DNA电路的商业应用,仍然有很长的路要走。目前,“试管计算机”只能做一些有限运算,且时间运算时间较长,无法和现代个人电路或者其他传统设备进行竞争。

    但是,DNA电路比传统硅电路,体积小很多。而且,DNA电路可以在潮湿环境中运行,有利于在血液、汤汁、狭窄的细胞内进行计算。

    杜克大学在这方面也有所建树,他们设计的合成DNA链,以恰当浓度在试管内进行混合,然后形成模拟电路,当分子链接形成和打破的时候,进行加、减、乘运算。大多数DNA电路是数字的,而该设备则通过测量不同浓度的特定DNA分子,以模拟方式进行运算,无需将特定的电路事先将其转化为0或者1。

    另外,美国佐治亚大学和以色列本古里安大学的研究人员,也演示了通过单个DNA分子制造纳米级电子组件,这是一项有望代替硅芯片的更高级的技术。

    还有,麻省理工学院的一组研究人员也开发过一种新技术,它在活的细胞中,集成模拟和数字两种计算方式,让细胞可以形成基因电路,进行复杂的运算操作。

    • 新工艺

    前不久,我介绍过美国麻省理工学院发明的「芯片自组装技术」,在芯片上绕了几圈自组装线缆,并配合使用「共聚物」这种新型材料,对预定义的设计和结构进行扩展和自组装。麻省理工学院声称,这项自组装技术能够完全利用现有的生产技术实现,并且这项技术有望部署到7纳米工艺中去。

    另外,英国埃克塞特大学也使用过一种「微流体技术」进行芯片生产。这项技术利用一系列微管道控制微量液体的流动和方向。流体中含有氧化石墨烯薄片,在管道中和液体混合在一起,以便在CMOS光子电路上,对于二维材料进行晶圆级的集成。

    这些新的芯片制造技术,比传统芯片的生产方法更加简单且低成本,它将为新一代的计算机在速度、效率和容量方面带来了革命性变化。

    另外,半导体制造设备的性能提升,对于芯片性能的改善和成本的降低也很有帮助,我以后将另外专门讨论这个问题。

    • 多核技术

    仅提升单核芯片的速度,势必会产生过多热量,而无法带来相应的性能改善。所以,多核技术便随之产生,多内核是指在一枚处理器中集成两个或多个完整的计算引擎(内核)。单芯片集成了多个内核,可提升执行程序的并行性。多个内核并行执行代码,可提高主频,降低功耗。所以,各大芯片厂家都纷纷推出了它们各自的多核处理芯片。

    去年,加州大学戴维斯分校电子和计算机工程系的团队,开发了一种微芯片,它包含了1000核的处理器芯片“KiloCore”,具有最大计算速率达每秒1.78万亿次指令,包含62100万个晶体管。

    另外,多核架构基础上,要让软件更好地运行,必须创建有利于软件运行的构架,例如增加核间通信、开发适合并行编程的多核芯片,我之前介绍过的麻省理工学院开发的“Swarm”芯片就是一个很好的例子。

    当然,多核芯片的应用还需要软件开发人员开发配套多核芯片的操作系统、编程语言、应用程序。

    结论

    当然,出路不仅仅在这些,对于半导体产业的明天,我是深有信心的,因为希望在于不断的创新和改进。同时,我也将和大家一起关注半导体领域的更多技术前沿,也欢迎大家的建议、意见、指正和探讨。

    摩尔定律,是生存还是毁灭?结合以上的分析,在这里分享我的一点思考:

    未来,或许摩尔定律将有更多新希望,或许将被其它定律取代,更有可能有些新技术将颠覆传统半导体产业的格局和发展思路,我们拭目以待!

    交流

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