大棚樱桃适宜地温：设施大樱桃萌芽前土壤温度提升技术

设施大樱桃生产中非常重视设施内温度和湿度的调控，往往忽视土壤温度管理。由于棚膜、树体、设施等的遮挡，地面接受光照的强度变弱，加之光照的时间较短，土壤温度较棚内气温回升慢，且长期偏低。过低的土壤温度严重抑制了根系的活性以及对土壤养分的吸收利用。所以，设施生产中提高土壤温度是非常必要的，在升温前期尤为重要。

1、建园时采用起台(盘)栽培

起台(盘)高度一般在40-50厘米(图1)，有利于提高根域的土壤温度、节约用水，便于雨季排水防涝;同时土壤透气性好，能够减轻根腐病和流胶病的发生。对于‘红灯’、‘美早’等较为旺长的树势还可以通过起台限制根系生长，达到缓和树体生长、促进成花和坐果的目标。

图1

2、树盘覆膜

在行间留下管理操作空间，行内用塑料薄膜起30厘米左右的小拱(图2)，其上覆盖地膜。这样可以提高根系主要分布层的土壤温度，比单纯地面覆盖的土壤温度高3℃左右。该方法浇水方便，湿度也容易控制。具体方法为：用竹片插拱后覆盖薄膜(黑色薄膜比白色吸热量高，还可以能抑制膜下草的生长);也可以拉扯几道铁丝，中间用竹棍作为支撑，将用过的大棚膜覆盖在上面。当樱桃硬核期时，把薄膜撤掉，提高土壤的透气性。

图2

3、埋设加热系统

一是在土壤30厘米深处埋设电加热系统;二是埋设管道用热水循环或热风循环系统(图3)。这两种方法对调控土壤温度都能取得好的效果。

图3

来源：烟台农科院