河南氦质谱检漏仪工作原理(氦质谱检漏仪厂家讲述)
设备或产品的密封性能相对允许泄漏率来讲的。不同的设备需要不同的功能和不同的气密性要求,因此允许的泄漏率也不同。这个允许的泄漏率通常是通过设计设计的根据设备对气密性的要求,经过仔细考虑和计算,提出了人员。允许泄漏率不仅是具有气密性要求的设备的主要设计指标,也是检测设备泄漏的基础。那么,如何计算允许泄漏率值呢?,以下是一些典型的情况。
所谓动态真空系统,是指泵在工作过程中仍在泵送的系统,如真空熔炼炉、真空镀膜机、粒子加速器等。动态真空系统通常使用泵送速度较快的泵来获取和维持真空。因此,由于系统上有较大的漏孔,仍然可以工作,因此对气密性的要求相应降低。然而,一旦该系统与泵分离,真空度将急剧下降。该系统的允许泄漏率可通过气体流量稳定关系计算。在空载条件下,当系统达到动态平衡时,单位时间进入系统空间的气体量必须等于泵取出的气体量。此时的平均压力是系统能够达到的极限压力p0。根据流量稳定的关系,有流量稳定的关系Q=Sp0式中Q=气流,包括漏气和放气两部分,即Q=QL QFS=泵对系统的有效抽速。
在设计真空系统时,如果泵对系统的有效抽速S 确定,要求系统达到的极限压力p0
也已知,那么系统允许的气体流量[Q ]为[Q ]≤ Sp0
一般选取[Q ]的1/10的作为允许漏率[ QL]。那么,动态系统的允许漏率应为:
[QL ]=1/10[Q ] ≤1/10S.P0
【例如】一台镀膜机,对蒸发室的有效抽速S 为100L/s,要求达到的极限压力p0 为1×10-5Pa,那么该镀膜机的允许漏率
[QL]=1/10(S×p0)=1/10×100×1×10-5 =1×10- 4(Pa·L/s)=1×10- 7( Pa·m3/s)
⑵ 静态真空系统的允许漏率所谓静态真空系统,即工作时已与泵隔离的真空系统,一般又称密闭容器或密闭器件,如显像管、电子管等。
静态系统的持点是:体积小,要求的极限压力较低,而且要求在与真空泵隔离后的相当长时间内,其真空度仍能满足工作要求,即寿命长。因此这种系统对漏气和放气的要求都是很高的。假设不考虑封闭系统中加有的消气剂的抽气作用,设器件封离时的压力为P0,保证器件正常工作所需的Z高压力为Pt,器件的内腔容积为V,器件封离后保存和工作的时间为t,那么器件所允许的总气载[Q](漏气和放气)应为[Q ] ≤V×(P0-Pt)/t
取器件的允许漏率[ QL]为[Q ]的1/10,即[Q L] =1/10[Q ]≤(0.1×V×(P0-Pt))/t
【例如】某只电子管,其内腔容积为0.1L,封离时的压力p0 为1×10-4Pa,电子管正常工作的Z高压力pt 为1×10-1Pa,要求器件保存和工作时间t 为10000h。那么,该电子管允许漏率应为
[Q L] ≤0.1×V×(P0-Pt)/t=(0.1×0.1×(1×10-2 -1×10-4))/10000×3600=2.8×10-10Pa.L/S
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