表面光亮处理新工艺（表面处理工艺-抛光）

抛光效果：

抛光效果

定义：

利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。

作用：

1.得到光滑表面或镜面；

2.消除光泽（消光）；

3.消除零件表面缺陷。

适用范围：

玉石、瓷砖、塑料、玻璃、陶瓷、金属材料等。

抛光分类：

1.机械抛光：

a.定义：靠切削、塑性变形去除材料表面凸部得到平滑面。

b.分类：粗抛、中抛、精抛。

c.抛光轮种类：缝合轮、非缝合轮、皱褶式。

d.特点：

1).成本低、操作简单；2).效率低，适用于小面积处理；3).表面不均匀；4).时间难掌握。

2.化学抛光：

a.定义：化学试剂对样品表面凹凸不平区域选择性溶解，使其消除磨痕、浸蚀整平。

b.优点：

1).设备简单、操作简单；2).表面粗糙度均匀一致；3).效率高，可抛光多个工件；4).可抛光形状复杂的工件。

c.缺点：

1).溶液的调整和再生困难；2).抛光时产生有害气体，对环境污染严重。

3.电解抛光(又称电化学抛光)：

a.定义：工件为阳极、不溶性金属为阴极，在适当电解液中及电流下，阳极工件发生溶解，表面逐渐整平，从而提高光亮度。

b.优点：

1).内外色泽一致，且光泽持久；

2).可加工硬/软质材料、薄壁、形状复杂、细小的制品；

3).尺寸精度和形状精度在0.01mm以内；

4).抛光率高且不受材料软硬影响；

5).操作容易、设备简单、投资小。

c.缺点：

1).前处理复杂，电解液的通用性差、寿命短、腐蚀性强及处理难；

2).工件表面基体粗糙度需在Ra1.6μm以下。

4.超声波抛光：

a.定义：将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，超声波使磨料震荡从而在工件表面磨削抛光。

b.特点：

1).适用于硬脆材料和非金属材料；2).作用力和热影响小；3).粗糙度Ra0.11~1.0μm；4).适用于薄壁/片、窄缝、低刚度的零件；4).抛光设备使用维修方便。

5.流体抛光：

a.定义：依据高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。

b.常用方法：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。

c.特点：

1)无粉尘，无溶液；2).公差影响小（1~2μm）；3).适合复杂形状抛光。

6.纳米抛光(又称等离子纳米抛光)：

a.定义：抛光剂水溶，在高温高压下原子核失去电子就形成带正电的离子，达到一定数量就成为等离子态且能量很大。需抛光物体与其摩擦瞬间即可达到表面光亮效果。

b.特点：

1)加工环境环保；2).生产成本低；3).生产效率高；4).抛光效果好；5).控制精度高。

7.磁流变抛光：

a.定义：利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。

无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体；外加磁场时，磁性微粒急剧转变（毫秒级）呈链状分布，磁流变液类似固体；撤除磁场，立刻恢复原液体性质。

c.特点：

1).加工效率高；2).质量好；3).加工条件易控制；4).工作条件好；5).无刀具磨损；6).无堵塞现象。

d.加工精度：Ra0.1μm。

三轴抛光运动控制系统（示教系统）

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